信然螺杆真空泵是由一对平行的螺旋状转子与泵体组成的一个工作室,转子与泵体之间没有磨擦且保持一定的间隙,两个转子与泵体之间形成了密封腔,当转子旋转时把密封腔内的气体不断地挤带至排气口排出。因螺杆真空泵无需油润滑或水密封,泵腔内完全无油,因此螺杆真空泵是无油干式真空泵,在半导体、电子工业中要求无油洁净的场合以及化工制药中对溶剂的回收工艺等具有不可比拟的优越性,可较好地替代旋片式真空泵、滑阀式真空泵使用。
也许,你在想干式无油螺杆真空泵厂家会如何演说这一个应用。其实,很简单啊,根据行业进行追溯。首先,我们知道:电子半导体行业主要包括电子技术、半导体、多晶硅/单晶硅、太阳能和光电显示领域。
干式无油螺杆真空泵厂家信然集团根据行业追溯后,整理电子半导体行业所需应用主要分为三大类:生产用真空(中高真空);清扫真空(粗真空);工艺真空(粗真空)。不同类型的领域需要不同的真空泵。
信然干式无油螺杆真空泵应用部分
生产用真空主要通过高真空使工作空间空气减少,保持工作空间的洁净,主要使用的真空泵类型包括干泵(干式螺杆真空泵、爪式泵)和分子泵及其机组。生产用真空设备在数量上较大,单机功率较小。
清扫真空主要利用负压与大气压差进行液体或颗粒的清除或输送,此类应用主要采用水环泵和多级离心风机,因为真空度低所以更多的是采用多级离心风机,真空源是其系统的一部分。
工艺真空主要利用负压吸附进行工件搬运或夹持,螺杆泵、爪式泵等干泵以及水环泵、旋片泵、微油螺杆泵都是工艺真空中常见的真空设备。
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电子器件半导体行业中的电子器件加快、半导体材料、电子类材料、射线管、有源晶振、汽车继电器、激光器、离子注入机器设备、电离刻蚀机、有机化学液相堆积机器设备、物理学液相堆积机器设备、分子结构束外延性机器设备、集成电路芯片封裝、别的半导体运用机器设备等。均在挥发,无心插柳,PECVD,真空干法刻蚀,真空吸咐,检测设备,机械臂,自动化技术真空清理这些键合工艺流程里所要用真空为(中高真空);清理真空(粗真空);加工工艺真空(粗真空)。一部分也有规定真空泵向被抽室内空间内的反流为零,以维护钢件免遭环境污染。下边信然集团真空泵技术性团体技术工程师们,给大伙儿共享电子器件半导体行业真空运用专业知识.期待可以给大伙儿产生协助.
一、按真空归类
生产制造真空为(中高真空)
1、生产制造用真空关键根据高真空使工作中室内空间气体降低,维持工作中室内空间的清洁,关键应用的真空泵种类包含干泵(干式挤出机螺杆真空泵、爪式泵)和分子泵以及发电机组。
加工工艺真空(粗真空)
2、加工工艺真空关键运用空气压力吸咐开展钢件运送或夹紧,磁力泵、爪式泵等干泵及其水环泵、旋片泵、微油磁力泵。
清理真空(粗真空)
3、清理真空关键运用空气压力与大气压力差开展液体或颗粒物的消除或运输,该类运用关键选用水环泵和多级别离心通风机。抗腐蚀旋内置式真空泵
二、按真空泵种类
较早时,油浸式变压器真空泵是半导体行业中常见的真空泵类型,最关键的特性是真空度提高,能考虑新型行业的独特加工工艺规定,在其中又以旋内置式真空泵和往复真空泵为关键意味着。因不可以抽水蒸汽和可凝气体及易腐蚀汽体等受到限制,但伴随着真空泵的产品研发生产工艺提高,继而选用清理;安全性;耐磨损;工程造价低;检修便捷;特性平稳;震动小,噪音低等优点的干试真空泵,就考虑半导体行业加工工艺规定。
干试真空泵种类
1、圆裂片式,爪式,组合型(罗次+爪),风冷式。这种种类被不一样生产商所广泛运用。在其中,圆裂片式,爪式和组合型(罗次+爪)被称作多级离心泵。工作方式基本相同,全是运用多级别真空腔对汽体开展不断的缩小来造成真空。
三、按真空系统
真空系统是由真空泵、PLC程序流程自动控制系统、空压机储气罐、真空管路、真空闸阀、海外过滤总程等构成的成套设备真空系统。系统软件广泛运用于电子器件半导体业、光学背光模组、机械加工制造等制造行业。
四、半导体行业真空系统
电子器件半导体行业规定真空系统大致分成三个级别。
1、清理标准下的抽真空,只吸干气体或含少量水蒸汽的气体。
2、中等水平标准下的抽真空,抽除加工工艺全过程的反应汽体,但无固态细颗粒物。
3、极端标准下的抽真空,抽除化学变化物(有害乃至致癌物质)及固态细颗粒物。干试旋片真空泵
五、半导体真空泵运用安全性事宜:
1、避免真空泵温度过高:
较为非常容易了解这一点,半导体在真空泵的运用中,有害物质比较多,而不论是干式真空泵还是骨架密封机械泵,泵腔内温度过高,高溫下易燃易爆物品及有害气体便会非常容易产生风险。
2、真空泵留意co2的浓度值:
空气中的氧假如浓度值过高就会产生点燃及发生爆炸风险性。因此一些状况下特别注意氧的浓度值,选用稀有气体来稀释液,避免浓度值过高;假定是骨架密封机械泵将会还必须选用一些可塑性的与氧相溶的真空泵油,并立即拆换油滤和成品油。
3、半导体真空泵合理稀释液有害物质的浓度值:
半导体易造成前边常说的易燃易爆物品、有害的有害物质。因此半导体真空泵运用中在提取这种物质时就务必避免他们在真空泵内或是排气管全过程中产生一些不可控性的反应。例如SiH4、PH3、AsH3、B2H6等化学物质,在与气体或氧触碰的情况下,会造成点燃乃至发生爆炸;氡气在空气中的混合占比做到一定水平与温度时也会产生点燃。这种都在于该物质的量及其与自然环境的工作压力、温度的关联。因而半导体真空泵在提取这种物质时,必须用N2这类的稀有气体,在缩小前将要这种汽体稀释液到那时候标准下的安全性范畴.
4、按时清理真空泵以及他附注、过滤、管路,防止过压:
半导体真空泵运用时,提取物质全过程中历经反应室与真空泵,其成份将会极其繁杂,如SiH4与O2在泵口产生SiO2,TiCl4水解反应会产生HCl;假定是骨架密封式机械泵,这种气体化学物质还将会与油泵产生化反。这种转变假定产生颗粒物、可凝物或是腐蚀物质,就将会阻塞真空泵或管道系统软件,危害真空泵特性,导致工作压力升高或过压,一点中提及的危险因素也更大。因此必须立即的清理,并在必需的情况下设定过滤器设备。
之上便是为您出示电子器件半导体行业真空运用专业知识,如您有必须掌握大量的真空技术性,敬请期待人们下一期精彩纷呈共享。